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박막성막가공


장치

사양

특징

실적예

3인치 캐소드
(CFS-4EP-LL:1대/
CFS-4ES-231:1대)


3"Cathode

전원

CFS-4EP-LL
RF:500W
DC:500Wx2/ CFS-4ES-231
RF:500Wx2

풍부한 타겟재를 상시 준비
(실험용으로 사용 가능)

기판 역 스퍼터 가능

반응성 2원동시 스퍼터링

O2 또는 N2가스에 의한 리엑티브 코팅 가능

대응가능기판

유리
수지(폴리미드 포함)
세라믹스
필름등

성막실적예

각종디바이스 전극막
투명전극막
반사막
장식용 코팅
절연막
베리어 메탈막
저항막

유전체막
각종 센서 관계
내마모성막
화합물 반도체에의
산화 보호막
아몰퍼스 Si막

Inline Chamber
가스
Ar,N2,O2
가열
온도
270C
6인치 캐소드
(SH-450-C10)


6"Cathode

전원
RF:3KW
DC:5KW
주로 메탈 전용기로 사용

타겟 바로 윗쪽 고정
스퍼터가 가능

고주파 에칭 크리닝 기구부
가스
2계통
메스플로우제어
Ar전용、
반응성가스용
(O2 또는N2)
가열
온도
250C
8인치 캐소드
(CFS-12P-100)


8"Cathode

전원
RF:4KW
DC:5KW
면내분포 균일성이 좋다

패치당 기판투입장수

50웨이퍼:100장
100웨이퍼 : 30장
150웨이퍼:16장
300웨이퍼:4장
 100*100판:28장
가스
Ar,N2,O2
가열
온도
200C
인라인
(MLH-6315RD)


In line type

전원
RF:3KW
DC:10KW
준비실/성막실이
분리

인터 백 방식 성막
가스
2계통
메스플로어제어
Ar전용、
반응성가스용
(O2 또는N2)
가열
온도
200C
(성막전 고정식 가열방식)





Flow of Thin Film Coating






고객과의 상담

막 개발 어시스트













기판, 타겟제작
본딩가공 포함)
또는 지급














준비
각종 고정법 대응
*플렉시블 고정품
*전용치구
*내열성 테이프 고정
*SUS마스크 고정

성막가공
(테스트、본성막)













출하










평가





협력회사와의 제휴로 폭넓은 평가 대응을 지향하고 있습니다.


이온도금, 진공증착, CVD, PVD등의 성막가공
각종 웨이퍼、유리 기판제작 등도 가능합니다.


내용에 관한 문의 사항은 이쪽으로 → 문의사항
문의처:(주)테크노화인 영업부/TEL:+81-44-986-7041/FAX:+81-44-986-7042
(215-0033) 카나가와 카와사키시 아사오쿠 쿠리키 2-6-1( E-mail:tf@techno-fine.co.jp)

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